“工欲善其事，必先利其器。”半导体产业亦如此：没有能加工出人头发丝几千分之一到上万分之一尺度的半导体设备，就无法造出芯片。
“信息产业的基础是集成电路和各种微观器件（包括芯片等）。随着微观器件越来越小，研发和制造高端微观加工设备，在人头发丝直径的几千分之一到上万分之一的尺度上，加工复杂的微观器件，成为最重要的、最关键的、最卡脖子的核心产业。中微公司以自主创新和独立知识产权开发的等离子体刻蚀机已在国内外众多客户生产线广泛应用，并核准加工14纳米、7纳米和5纳米的最先进器件。同时，公司自主研发的制造氮化镓基LED外延片的MOCVD关键设备，在众多的LED生产线上已成为市场首选设备。相关产品均面临了市场机会和继续快速增长的空间。”中微公司董事长及总经理尹志尧在此前路演时介绍说。
7月22日，科创板鸣锣开市，中微公司本次定价及未来表现是近期热议话题，安信证券研究中心总经理助理诸海滨接受证券时报记者采访时认为，中微公司是我国半导体设备企业中，极少数能与全球顶尖设备公司直接竞争并不断扩大市场占有率的公司，是业界公认的后起之秀。有稀缺性加上高成长的预期，所以市场给出百亿级别估值；未来主要关注业绩能否保持高增长势头从而对公司估值形成有力支撑。
方寸间近乎极限的操作
无论是上个世纪90年代的“909工程”，还是2000年之后上海张江的集成电路产业爆发，每一代芯片人都身负理想、踌躇满志，由尹志尧领衔的中微公司创始团队亦如是。
时间回拨至2004年，在美国半导体领域已闯荡20年的尹志尧带领了一支全球化团队回国创业；尹志尧本人在上世纪80年代曾前往加州大学洛杉矶分校留学，并获得物理化学博士学位；1984年至2004年，他先后在英特尔、泛林半导体和应用材料担任要职；目前，尹志尧是89项美国专利和200多项其他海内外专利的主要发明人。中微公司的其他联合创始人、核心技术人员中还包括杜志游、倪图强、麦仕义等在国际半导体设备产业耕耘数十年的顶尖专家。
在集成电路产业中，先进集成电路大规模生产线的投资可达100亿美元，75%以上是半导体设备投资，而光刻机、等离子体刻蚀设备、薄膜沉积设备是集成电路前道生产工艺中最重要、最大宗的三类设备，该市场一直主要由国外厂商主导，行业高度垄断，技术壁垒明显。成立伊始，中微公司就将目光瞄准了等离子体刻蚀设备领域。
何谓刻蚀？是用化学或物理方法有选择地在硅片及外延材料表面去除不需要的材料的过程，这些化学物理反应在硅片上开槽打洞，形成令人叹为观止的微观结构。“一块指甲盖大小的芯片可集成几十亿个晶体管。这种微观器件领域方寸间近乎极限的操作，对刻蚀机的控制精度提出极高要求。”上海本地半导体制造业内人士向证券时报记者谈道。
2007年，中微公司首台CCP刻蚀设备产品Primo D-RIE研制成功，由此迈开追赶国际先进水平的步伐。转眼2015年，美国商务部宣布解除对我国等离子体刻蚀设备多年的出口管制，原因就在于中微公司已开发出了与美国设备公司具有同等质量和相当数量的等离子体刻蚀设备并实现了量产。
多次知识产权诉讼从未失败
中微公司在薄膜沉积设备亦开始发力。2010年，中微公司开始研发用于LED器件加工中最关键的设备——MOCVD；2017年，公司设备逐步打破了维易科和爱思强两家国际知名企业的垄断。
崛起之路并非坦途，更何况竞争对手均为老牌国际巨头。截至2018年末，中微公司曾涉及四起海内外知识产权诉讼案件，涵盖两件专利案件和两件商业机密案件，最终公司未尝败绩，在诉讼中均达成和解或胜诉。这一结果与中微公司历来在研发保持高投入密不可分。2016年-2018年公司累计研发投入10.37亿元，约占营业收入的32%。
如今，中微公司经过15年的发展，公司等离子体刻蚀设备已在国际一线客户（主要为晶圆厂）从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米的集成电路加工制造及先进封装中有具体应用。同时，公司的MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产，已成为世界排名前列、国内占领先地位的氮化镓基LED MOCVD设备制造商。
技术的突破和产品量产化正转化为效益。中微公司2016年至2018年营业收入分别为6.1亿元、9.72亿元、16.39亿元；归母净利润分别为-2.39亿元、2991.87万元、9086.92万元。同时，公司预计2019年1~6月实现营业收入7.2~8.6亿元，同比增长55%~85%；预计实现扣非后归母净利润为2200~2600万元，较去年同期的-4801.28万元由负转正。
谈及刻蚀设备增长潜力，诸海滨认为，中微公司的刻蚀设备虽然在销售规模上离巨头们有一定差距，但其部分技术水平和应用领域已达到国际同类产品的标准，产品也正获得更多下游客户认可。2019年上半年预告扭亏转盈就是一个好信号，未来市场份额有望进一步提升。
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